フォトマスク中国語の意味

• 光掩模フォト照片マスク(英) mask 盖口鼻的布;假面具;击剑的面具;捕手戴的面罩;相貌

• フォト    照片
• マスク    (英) mask 盖口鼻的布;假面具;击剑的面具;捕手戴的面罩;相貌
• フォトマスクセット    光掩模组
• フォトマスキング    光学掩蔽；感光掩蔽
• ホトマスク    photomask 光掩模。
• フォトマップ    空中摄影地图
• ゲートマスク    栅掩蔽；栅掩模；筛式掩莫
• バイトマスク    字节屏蔽
• ビットマスク    位屏蔽
• フォトマーキング    photo marking 光学划线法。
• コンフォーマブルホトマスクほう    相似光（刻）掩模法
• コンフォーマブルホトマスク法    相似光（刻）掩模法
• オフセットマスク    胶版掩模
• コンタクトマスク    接触掩模
• レピートマスク    重复掩模

• ２ｃｍ×２ｃｍに切断したガラス基板にフォトレジストを塗布し，このフォトマスクを重ねて露光した。
  在裁切为２ｃｍ×２ｃｍ的玻璃基板上涂抹光致抗蚀剂，叠放上述光掩膜后进行曝光。
• （１）まずＳＯＩ層表面にフォトマスクを用いてシャッター形状にパターニングし，エッチングによりシャッター形状を形成する。
  （１）首先利用光掩膜在ＳＯＩ层表面形成快门形状的图案，通过蚀刻形成快门形状。
• 以上の方法で作成したパターンをＯＨＰフィルムに印刷し，エマルジョンガラスに縮小転写（１／５）し，フォトマスクを作成した。
  我们把利用以上方法制作的图案印刷到ＯＨＰ薄膜上，在乳胶玻璃上进行缩印（１／５），制成光掩膜。
• 側面に転写するパターンも１枚のフォトマスクに収めることが可能であり，図２（ｂ）にマスクパターンが各面に転写される関係を模式的に示す。
  复制至侧面的图案也能够被纳入１张光掩膜，因此，图２（ｂ）模式化地显示了掩膜图案复制至各面的关系。
• 一方，実際の電極の２０倍の大きさで原図を描き，それをガラス乾板上に１／２０倍で写真撮影し，Ｆｉｇ．１のようなフォトマスクを作製した。
  另外，以实际电极２０倍的大小绘制原图，将其以１／２０倍的比例照相拍摄到玻璃干板上，制作了如Ｆｉｇ．１所示的光掩膜。
• 図２（ａ）のように，フォトマスク上に２２．５°斜面のミラーを置くことでＵＶ光を４５°で入射させ，試料の上面（マスクとの接触面）と両側面の計３面に対し同時に露光を行なった。
  如图２（ａ）所示，研究人员通过在光掩膜上放置２２．５°斜面的反射镜，使ＵＶ光从４５°入射，同时对试料上表面（与掩膜接触的面）和两个侧面共３个面同时进行了曝光。